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硅片質(zhì)量對太陽能電池性能的影響

鉅大LARGE  |  點擊量:1565次  |  2019年11月20日  

本文主要介紹硅片各種不良對太陽能電池性能的影響:硅錠研磨拋光對太陽能電池性能的影響


作為脆性材料,多晶大錠切方后,在小硅錠表面會有機(jī)械損傷層存在,包括碎晶區(qū)、位錯網(wǎng)絡(luò)區(qū)和彈性應(yīng)變區(qū),其結(jié)構(gòu)如圖1所示。碎晶區(qū)又稱微裂紋區(qū),是由破碎的硅晶粒組成的;位錯網(wǎng)絡(luò)區(qū)存在大量位錯;彈性應(yīng)變區(qū)則存在彈性應(yīng)變,硅原子排列不規(guī)整。



圖1


由于損傷層的存在,尤其有大量微裂紋的碎晶區(qū)的存在,在后續(xù)的切片、電池片生產(chǎn)和組件生產(chǎn)過程中,很容易成為裂紋的起始點,引起硅片或電池片的隱裂、微裂紋、崩邊和碎片。



圖2


因此,多晶大錠在切方成小硅錠后一般都需要通過機(jī)械研磨或化學(xué)拋光,去除或減少硅錠表面損傷層。


圖2某供應(yīng)商硅錠未經(jīng)機(jī)械研磨或化學(xué)拋光的硅片在電池線生產(chǎn)的平均碎片率約為1.5%左右,而其硅錠經(jīng)過機(jī)械研磨之后的硅片,平均碎片率僅為0.7%,降低了一倍多。


硅片鋸痕、臺階和厚薄不均對太陽能電池性能的影響


針對某供應(yīng)商的鋸痕、臺階和厚薄不均片等不良硅片進(jìn)行了批量實驗。其中鋸痕片凹凸深度大于30um,臺階片深度為30-40um,厚薄不均片范圍為130-330um。


[page]鋸痕、臺階和厚薄不均片由于在硅片上存在局部區(qū)域的高低起伏和厚度差異,在電池制造的各道工序會因受力不均而引起碎片率的上升。在絲網(wǎng)印刷工序,尤其對于硅片局部區(qū)域高低突變的鋸痕和臺階片,很容易造成電極或背場的漏印,引起電極不良。


如圖3、4所示,鋸痕、臺階和厚薄不均片的碎片率、電極不良率和總報廢與不良率均明顯高于正常硅片,其中總報廢與不良率比正常硅片高了4%-10%。



圖3各種不良硅片電池生產(chǎn)對比圖



圖4各種不良硅片組件生產(chǎn)對比圖


硅片的表面沾污對太陽能電池性能的影響



圖5手指印造成的硅片表面沾污,在制絨過程中,會出現(xiàn)如異常



圖6原始硅片未清洗干凈,表面有有機(jī)油污污染或清洗液殘留等造成的硅片表面沾污,在制絨過程中,會出現(xiàn)異常



圖7硅片表面因為有油污等存在,制絨后未能長出金字塔結(jié)構(gòu)的絨面


圖8由于原始硅片手指印和有誤的存在,在制絨過程中無法去除,在pECVD工序會引起色斑


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